光刻人必须知道的缺陷？
一、光刻中的“Poor Coating”
Poor Coating是光刻工艺中常见的缺陷，在工程中指的是光刻胶局部漏涂，或者膜厚较薄的一种现象，它表现为在正常区域与异常区域有明显的颜色过渡，形貌上表现为一道线，或者是尖齿状的，这种缺陷由于旋涂离心力的作用，一般发生在晶圆边缘处，如下图所示。在实际中，Poor Coating是不太容易用”肉眼“观察到的，在实际量产中，这是最容易出现事故的case。二、COT是怎么造成"Poor Coating“的？总之，局部光阻少，凡是能造成光阻铺展阻碍的情形都可以造成Poor Coating，至上而下。我来总结一下原因，这些原因大致包括以下：1）首先要想到光阻量Margin，就是光阻Volume涂布太少，工艺窗口小；2) 机台是否有问题，比如说RRC状态异常、Cot状态异常，比如Nozzle头结晶，光阻管路Bubble等；
3）前层Step High影响，导致光刻胶局部旋涂异常。三、遇到这种缺陷，我们怎么办？1）CheckCOT nozzle condition,check resist piping have bubble or not；2）Check the COT resist sensor ；3）check COT resistand RRC dispense condition；4）measure COT resist volume, COT RRC volume,check in spec or not；5）Check COT cup condition, checkinside edge have fray or not.6）monitor 5pics/COTrelatively thickness,check have poor coating or not这种缺陷一定要查清楚是由于某支光阻Volume量的问题，还是机台Condition的问题！！！所以……6）很有必要先做一下！
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