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[零组件/半导体] Litho Bridege Defect

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发表于 2025-5-18 22:29 | 显示全部楼层 |阅读模式

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一、什么是光刻的“Bridge Defect”
“Bridge”一词在英文译为“桥梁”,在光刻区域呢,Bridge defect指的是光阻的桥连缺陷,造成这种缺陷的原因今天先讲一种,即由于COT造成的。请看好我写的字,今天先讲一种原因,切莫以偏概全,其它原因也可以造成。
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要注意这种缺陷跟Defocus以及显影residue是不太一样的。所以这就是大佬厉害的地方,细致入微,明察秋毫,为什么有的工程师查case一下就能查到root cause,有的工程师忙活很久,不但case解不了,而且制造很多不必要的麻烦,仔细品一下,一定要多学习,多思考,才能提高业务水平的。
二、COT是怎么造成"Bridge Defect“的?
我觉得看到我这篇文章的人,无论是从事光刻的工程师,还是整合工程师,以及科研人员,这些都有借鉴意义,因为这些都是我拿出的干货,懂行的读者自然能知道我写文章的水平与意义,我写这些的目的,是为了帮助别人,也是帮我自己。
我来总结一下原因,这些原因大致包括以下:
1)光阻管路微起泡导致;
2)Tool long down,或者该管路的光阻长时间没用,导致光阻异常;
3)光阻Filter有问题;
4)光阻Nozzle头有问题;
三、遇到这种缺陷,我们怎么办?
[1]针对问题1)、2)进行Bubble remove动作,Purge,Vent,dummy several times
[2]针对问题3)、4)有问题的统统换掉就行,简单粗暴。


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