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[零组件/半导体] 史上最全的光刻试剂

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二级逆天

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发表于 2025-5-17 22:50 | 显示全部楼层 |阅读模式

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  • 关于显影液


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丙酮在某些特殊场合也可以作为显影液的,显影液的本质并不是碱性,酸性等,以上表述只是一个关于显影液的外延。要理解到,显影液它是一种无论采取选择性溶解,或者选择性刻蚀的方式来达到一定对比度光刻胶图案的一种溶液。关于表格总结,是为能够跟行业人更方便快捷的交流。想到此,我脑子中突然冒出王德峰老师的几句话,“你见到一个锤子,它是一个锤子,它可以用来敲东西,但你见到一个板砖,它也可以用来敲东西,那么锤子是什么呢?”我们用板砖去敲东西的时候,无形中就赋予了它锤子的功能。哈哈,这个问题上升到哲学层面上了,什么意思呢,说这个,就是希望大家认识到事物的本质。
  • 关于去胶液

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去胶液当然是以NMP为主的,但是PGMEA、以及丙酮也是可以用来去胶的,但不常用,以上列举的是常用的。
关于去胶的Case有很多,比较突出的问题当然是光刻胶残留问题。去胶的原理对不同类型的光刻胶是不太一样的,一般情况下,对于大部分正胶而言,是通过溶解来实现去胶,但对于类似PI,SU8等紫外光聚合后的胶,NMP更多的情况是不能完全溶解的,大多数情况下,类似“掀”起来,为什么说wet的一些去胶的机台,当大量的去除PI胶等,会发现管路中有很多结晶一样的东西。
  • 关于粘合剂

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